內(nèi)部按功能劃分為六大核心區(qū)域：潔凈生產(chǎn)區(qū)采用無(wú)設(shè)備空曠布局，預(yù)留8-12米柱距滿足光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等大型設(shè)備安裝需求；管線集成區(qū)通過(guò)規(guī)整的頂部管線橋架系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)水、電、氣、真空系統(tǒng)集中管控，減少管線交叉干擾；潔凈緩沖區(qū)設(shè)置于生產(chǎn)區(qū)入口，搭配墻面通風(fēng)口保障潔凈度過(guò)渡；設(shè)備預(yù)留區(qū)保留開(kāi)闊橫向空間，支持后期工藝動(dòng)線調(diào)整；結(jié)構(gòu)輔助區(qū)通過(guò)角落加固設(shè)計(jì)，滿足重型設(shè)備承重需求；墻面潔凈區(qū)采用光滑防污材質(zhì)，降低粉塵附著率。整體空間兼顧半導(dǎo)體生產(chǎn)的潔凈標(biāo)準(zhǔn)與功能靈活性，適配合肥半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求。